Miroirs UV : refléter l’avenir des systèmes optiques
Auteur : Bryan Ng – Responsable marketing
Editeur : Qu Yingli – Directeur R&D
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1. Comprendre les miroirs UV
Les miroirs optiques possèdent des surfaces réfléchissantes qui renvoient la lumière et servent généralement à replier ou à compacter un système optique. Les miroirs UV sont des miroirs spécialisés conçus pour réfléchir la lumière ultraviolette (UV). Ces types de miroirs sont couramment utilisés dans diverses applications telles que l'imagerie médicale, la fabrication de semi-conducteurs, la microscopie à fluorescence et même l'astronomie.
Les miroirs UV nécessitent la sélection de matériaux et de revêtements spécifiques. Les différentes applications de réflectivité UV des miroirs varient à différentes longueurs d'onde en raison d'une combinaison de facteurs, tels que le matériau du substrat, l'épaisseur et la composition des revêtements, ainsi que l'angle d'incidence. Comprendre et évaluer comment ces facteurs affectent les propriétés de la lumière UV est essentiel à la conception de miroirs pour des applications spécifiques.
2. Applications des miroirs UV
2.1 Industrie médicale
Les miroirs UV ont un large champ d'application dans le domaine médical. En imagerie médicale, il existe diverses techniques d'imagerie, comme la microscopie à fluorescence, qui s'appuient sur la fluorescence UV. Cela améliore la visualisation de marqueurs biologiques spécifiques et facilite le diagnostic des maladies. D'autres utilisations de ces miroirs incluent la stérilisation UV du matériel médical et le durcissement des matériaux dentaires en dentisterie.
2.2 Fabrication de semi-conducteurs
L'industrie des semi-conducteurs s'appuie sur les miroirs UV pour les processus de photolithographie, une étape cruciale dans la fabrication des circuits intégrés. Les miroirs UV sont utilisés pour la configuration précise des puces de silicium, en dirigeant et en focalisant la lumière ultraviolette sur des tranches semi-conductrices recouvertes de résine photosensible. Cela garantit la production de composants électroniques plus petits et plus efficaces.
2.3 Systèmes laser
Divers systèmes laser UV utilisent des miroirs UV pour diriger la lumière UV. Ces lasers vont des lasers de puissance relativement faible utilisés en chirurgie LASIK aux lasers de puissance beaucoup plus élevée utilisés en sécurité. En fonction de la puissance et de la fréquence du laser, des miroirs UV spécialisés peuvent être nécessaires pour de telles applications. Par exemple, un laser de plus grande puissance peut nécessiter un miroir ayant une tolérance thermique plus élevée et capable de dissiper la chaleur rapidement, tandis qu'un miroir utilisé dans des applications plus précises telles que la chirurgie oculaire au LASIK nécessiterait une qualité de surface supérieure.
3. Types de miroirs UV
Différents types de miroirs UV peuvent être différenciés en fonction de leurs matériaux constitutifs et de leurs procédés de fabrication. Les miroirs UV les plus courants sont les miroirs diélectriques ou les miroirs à revêtement métallique. Les miroirs UV peuvent également être différenciés par l'application pour laquelle ils sont conçus. Il s'agit souvent de versions personnalisées de miroirs diélectriques et de miroirs à revêtement métallique, avec différents substrats, revêtements, épaisseurs et processus de fabrication. Certains types de miroirs couramment utilisés sont les miroirs à ligne laser et les miroirs ultrarapides.
3.1 Miroirs diélectriques à large bande
Matière: BK7 ou silice fondue
Tolérance de dimension: + 0.0 / -0.2 mm
Tolérance d'épaisseur: ± 0.2mm
Qualité de surface: 20/10 SD
Ouverture claire: >90%
Réflectance: >99%
Angle d'incidence : 45 °
Planéité (Le facteur critique) : < λ/10 @ 632.8 nm par plage de 25 mm
Chanfreiner: Protecteur<0.5mmx45°
Enrobage: Diélectrique HR
Seuil de dégâts : >5J/cm², 20ns, 20Hz, @1064nm
Spécifications 1: Wavelength Opto-Electronic Miroirs diélectriques à large bande
Les miroirs diélectriques à large bande sont conçus pour présenter une réflectivité élevée sur une large gamme de longueurs d'onde du spectre électromagnétique. Contrairement aux miroirs conventionnels, optimisés pour la réflexion à une longueur d'onde donnée ou dans une bande spectrale étroite, les miroirs diélectriques à large bande sont conçus pour réfléchir efficacement la lumière sur une large gamme de fréquences, incluant les ultraviolets, le visible et l'infrarouge (IR).
| Référence | Longueur d'onde (nm) | Dimension (mm) | Epaisseur (mm) | Source | Réflectivité (%) |
|---|---|---|---|---|---|
| RFS-1-6.35-B1 | 350 – 400 | 25.4 | 6.35 | Silice fondue | > 99 |
| RFS-30-5-B1 | 350 – 400 | 30.0 | 5.00 | Silice fondue | > 99 |
| RFS-1.5-6.35-B1 | 350 – 400 | 38.1 | 6.35 | Silice fondue | > 99 |
| RFS-1.5-9.5-B1 | 350 – 400 | 38.1 | 9.50 | Silice fondue | > 99 |
| RFS-2-9.5-B1 | 350 – 400 | 50.8 | 9.50 | Silice fondue | > 99 |
Ces miroirs sont fabriqués en déposant plusieurs matériaux diélectriques avec des indices de réfraction variables sur un substrat. La disposition et l'épaisseur de ces matériaux créent des effets d'interférence qui augmentent la réflectance du miroir sur un large spectre. Cela permet de personnaliser le miroir en fonction d'applications et de besoins particuliers. Ils sont plus robustes et résistants aux forces environnementales que les miroirs à revêtement métallique. Cependant, le processus de fabrication n’est pas aussi simple, ce qui en fait un produit plus coûteux à produire que son homologue plaqué métal.
3.2 Miroirs à revêtement métallique
Matière: BK7 ou silice fondue
Tolérance de dimension: + 0.0 / -0.2 mm
Tolérance d'épaisseur: ± 0.2mm
Qualité de surface: 20/10 SD
Ouverture claire: >90%
Angle d'incidence : 45 °
Planéité (Le facteur critique) : < /10 @ 632.8 nm
Aluminium protégé : Ravg>90% @ 400nm-2µm
Argent protégé : Ravg>97 % à 400 nm-2 µm
Seuil de dégâts : >1 J/cm², 20ns, 20Hz, @1064nm
Spécifications 2: Wavelength Opto-Electronic Miroirs métalliques à large bande
Les miroirs UV métallisés sont fabriqués en déposant une fine couche de film métallique d'aluminium ou d'argent sur un substrat approprié, grâce à diverses techniques telles que le dépôt physique en phase vapeur (PVD) ou le dépôt chimique en phase vapeur (CVD). L'aluminium et l'argent sont deux métaux couramment utilisés pour le revêtement de ces miroirs. Les miroirs à revêtement d'aluminium sont économiques et largement utilisés pour les applications UV, car ils présentent une excellente réflectivité. Cependant, les revêtements d'aluminium peuvent s'oxyder avec le temps, ce qui peut affecter leurs performances de réflexion. Ces miroirs nécessitent un entretien régulier et des précautions particulières afin de préserver leurs propriétés réfléchissantes.
| Référence | Longueur des ondes | Dimension (mm) | Epaisseur (mm) | Source | Réflectivité (%) |
|---|---|---|---|---|---|
| RFS-1-6.35-A | 450 nm – 20 µm | 25.4 | 6.35 | Silice fondue | > 90 % à 450 nm – 2 µm |
| RFS-30-5-A | 450 nm – 20 µm | 30.0 | 5.00 | Silice fondue | > 90 % à 450 nm – 2 µm |
| RFS-1.5-6.35-A | 450 nm – 20 µm | 38.1 | 6.35 | Silice fondue | > 90 % à 450 nm – 2 µm |
| RFS-1.5-9.5-A | 450 nm – 20 µm | 38.1 | 9.50 | Silice fondue | > 90 % à 450 nm – 2 µm |
| RFS-2-9.5-A | 450 nm – 20 µm | 50.8 | 9.50 | Silice fondue | > 90 % à 450 nm – 2 µm |
| RFS-1-6.35-S | 450 nm – 20 µm | 25.4 | 6.35 | Silice fondue | > 97 % à 450 nm – 2 µm |
| RFS-30-5-S | 450 nm – 20 µm | 30.0 | 5.00 | Silice fondue | > 97 % à 450 nm – 2 µm |
| RFS-1.5-6.35-S | 450 nm – 20 µm | 38.1 | 6.35 | Silice fondue | > 97 % à 450 nm – 2 µm |
| RFS-1.5-9.5-S | 450 nm – 20 µm | 38.1 | 9.50 | Silice fondue | > 97 % à 450 nm – 2 µm |
| RFS-2-9.5-S | 450 nm – 20 µm | 50.8 | 9.50 | Silice fondue | > 97 % à 450 nm – 2 µm |
Les miroirs UV peuvent également être différenciés par l'application pour laquelle ils sont conçus. Il s'agit souvent de versions personnalisées de miroirs diélectriques et de miroirs à revêtement métallique, avec différents substrats, revêtements, épaisseurs et processus de fabrication. Certains types de miroirs couramment utilisés sont les miroirs à ligne laser et les miroirs ultrarapides.
3.3 Miroirs à lignes laser
Matériau du substrat : N-BK7 et silice fondue
Tolérance de dimension: + 0.0 / -0.25 mm
Tolérance d'épaisseur: ± 0.25mm
Qualité de surface: 10/5 SD
Ouverture claire: >90%
Réflectance: >99% à 45°
Angle d'incidence : 0-45 °
Planéité (Le facteur critique) : < /10 @ 632.8 nm
Dispersion du délai de groupe : < 30fs² (pour la lumière polarisée s & p)
Enrobage: HR à 350-400 nm/510-580 nm/950-1150 nm
Seuil de dommages à 20 ns, 20 Hz : 20 J/cm2 pour 1064 nm / 15 J/cm2 pour 532 nm / 10 J/cm2 pour 355 nm
Spécifications 3: Wavelength Opto-Electronic Miroirs de ligne laser
Les miroirs de ligne laser sont idéaux pour les applications nécessitant la réflexion ou la redirection de faisceaux laser, notamment pour des tâches telles que le pilotage ou le repliement de faisceau. Ces miroirs sont conçus avec des seuils de dommage plus élevés pour les lasers de forte puissance. Ils sont couramment utilisés pour les lasers Nd:YAG, mais peuvent également être adaptés aux lasers fonctionnant dans le spectre UV.
| Référence | Longueur d'onde (nm) | Dia (mm) | ET (mm) | Source | Réflectivité (%) |
|---|---|---|---|---|---|
| RFS-0.75-3.2U | 355 | 19.1 | 3.2 | Silice fondue | 99.5 |
| RFS-0.75-9.5U | 355 | 19.1 | 9.5 | Silice fondue | 99.5 |
| RFS-20-2U | 355 | 20 | 2 | Silice fondue | 99.5 |
| RFS-1-3U | 355 | 25.4 | 3 | Silice fondue | 99.5 |
| RFS-1-6U | 355 | 25.4 | 6 | Silice fondue | 99.5 |
| RFS-1-6.3U | 355 | 25.4 | 6.3 | Silice fondue | 99.5 |
| RFS-1-9.5U | 355 | 25.4 | 9.5 | Silice fondue | 99.5 |
| RFS-30-5U | 355 | 30.1 | 5 | Silice fondue | 99.5 |
| RFS-1.5-3U | 355 | 38.1 | 3 | Silice fondue | 99.5 |
| RFS-1.5-9.5U | 355 | 38.1 | 9.5 | Silice fondue | 99.5 |
| RFS-38.5-3U | 355 | 38.5 | 3 | Silice fondue | 99.5 |
| RFS-50-5U | 355 | 50 | 5 | Silice fondue | 99.5 |
| RFS-2-6.3U | 355 | 50.8 | 6.3 | Silice fondue | 99.5 |
| RFS-2-9.5U | 355 | 50.8 | 9.5 | Silice fondue | 99.5 |
| RFS-1-9.5V | 266 | 25.4 | 9.5 | Silice fondue | 99.5 |
| RFS-30-5V | 266 | 30 | 5 | Silice fondue | 99.5 |
| RFS-1.5-9.5V | 266 | 38.1 | 9.5 | Silice fondue | 99.5 |
| RFS-2-9.5V | 266 | 50.8 | 9.5 | Silice fondue | 99.5 |
3.4 Miroirs ultrarapides
Matière: Silice fondue
Tolérance de dimension: + 0.0 / -0.2 mm
Tolérance d'épaisseur: ± 0.2mm
Qualité de surface: 20/10 SD
Ouverture claire: >80%
Réflectance: >99%
Angle d'incidence : 45 °
Planéité (Le facteur critique) : < /10 @ 632.8 nm
Dispersion du délai de groupe : < 30fs² (pour la lumière polarisée s & p)
Enrobage: HR
Seuil de dégâts : >100mJ/cm² @ 800nm, 50fs, 50Hz
Spécifications 4: Wavelength Opto-Electronic Miroirs ultrarapides
Les miroirs ultrarapides sont conçus pour les lasers ultrarapides. Ces lasers émettent des impulsions ultracourtes, c'est-à-dire des impulsions lumineuses d'une durée de l'ordre de la femtoseconde ou de la picoseconde. Ces miroirs présentent des seuils d'endommagement élevés et un faible délai de dispersion de groupe (GDD). Le GDD mesure le déphasage entre les différentes fréquences au sein d'une impulsion. Un miroir à faible GDD est essentiel lorsque la maîtrise des caractéristiques temporelles des impulsions laser ultracourtes est cruciale.

Le graphique ci-dessus concerne un miroir ultrarapide en silice fondue. Comme illustré, le miroir a un GDD inférieur à 30 fs² (pour la lumière polarisée s & p), entre 370 nm et 420 nm. Cette propriété rend ces miroirs très utiles dans des domaines tels que la spectroscopie, le traitement des matériaux et l’industrie médicale.
| Référence | Longueur d'onde (nm) | Dimension (mm) | Epaisseur (mm) | Source | Groupe Retard Dispersion |
|---|---|---|---|---|---|
| RFS-1-6.35-UM1 | 355 – 455 | 25.4 | 6.35 | Silice fondue | < 30 fs² |
| RFS-30-5-UM1 | 355 – 455 | 30.0 | 5.00 | Silice fondue | < 30 fs² |
| RFS-1.5-6.35-UM1 | 355 – 455 | 38.1 | 6.35 | Silice fondue | < 30 fs² |
| RFS-1.5-9.5-UM1 | 355 – 455 | 38.1 | 9.50 | Silice fondue | < 30 fs² |
| RFS-2-9.5-UM1 | 355 – 455 | 50.8 | 9.50 | Silice fondue | < 30 fs² |
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| Tolérance | Standard | La précision | Haute précision |
| Substrats | Verre : N-BK7, silice fondue | ||
| Cristal : ZnSe, Si | |||
| Métal : Cu, Al, Mo | |||
| Dimensions | Minimum : 4 mm, Maximum : 200 mm | ||
| Formes/Géométries | Elliptique, Plat, Sphérique, Parabolique | ||
| Dimension | ± 0.25mm | ± 0.1mm | ± 0.05mm |
| Grosor | ± 0.1mm | ± 0.05mm | ± 0.01mm |
| Gamme de longueur d'onde | 350 nm à 20 μm | 350 nm à 20 μm | 350 nm à 20 μm |
| Platitude | 2λ | λ / 4 | λ / 10 |
| Réflectivité | 85 % | 90 % | 99.9 % |
| Options de revêtement | Métallique, diélectrique à large bande, diélectrique à bande étroite, | ||
| Qualité de surface | 80-50 | 40-20 | 10-5 |




