เครื่องควบคุมแสงแบบอิเล็กโทรออปติก
ตัวปรับเฟสและเซลล์พอกเคิลของอิเล็กโทรออปติกส์เป็นอุปกรณ์ไฟฟ้าออปติกที่ใช้สนามไฟฟ้าเพื่อควบคุมเฟสหรือโพลาไรเซชันของแสง ส่วนประกอบเหล่านี้มีความจำเป็นสำหรับแอปพลิเคชันที่มีความแม่นยำ เช่น การรักษาเสถียรภาพของเลเซอร์ หวีความถี่แสง และการควบคุมสถานะควอนตัม ส่วนประกอบเหล่านี้ใช้กันอย่างแพร่หลายในระบบโทรคมนาคม การป้องกันประเทศ และการวิจัย โดยมีบทบาทสำคัญในการควบคุมและปรับลำแสงเลเซอร์และสัญญาณแสง
โมดูเลเตอร์เฟส
โมดูเลเตอร์เฟสเป็นอุปกรณ์มอดูเลชั่นที่พัฒนาขึ้นบนพื้นฐานของเอฟเฟกต์อิเล็กโทรออปติกและทฤษฎีเรโซเนเตอร์ความถี่สูง ซึ่งสามารถปรับเฟสแสงโพลาไรซ์ได้ มักใช้ในระบบออพติคที่มีความแม่นยำ เช่น การรบกวนของเลเซอร์, หวีความถี่แสง, การรักษาเสถียรภาพของความถี่เลเซอร์, การระบายความร้อนของอะตอม และการควบคุมสถานะควอนตัม เมื่อสัญญาณไฟฟ้าที่มีความถี่เฉพาะถูกฉีดเข้าไปในช่องเรโซแนนซ์ความถี่สูง คลื่นแม่เหล็กไฟฟ้าจะถูกสะท้อนอย่างต่อเนื่องในช่องนั้นจนเกิดเป็นคลื่นนิ่ง ส่งผลให้เกิดคลื่นแม่เหล็กไฟฟ้า คริสตัลอิเล็กโทรออปติกสร้างเอฟเฟกต์การรีฟริงเจนซ์ภายใต้การกระทำของเรโซแนนซ์แม่เหล็กไฟฟ้า ซึ่งในที่สุดจะนำไปสู่การเปลี่ยนเฟสของแสง โมดูเลเตอร์ของเราใช้คริสตัลออปติกไฟฟ้าหลากหลายชนิด เช่น MLN, DKDP, KTP, LT เป็นต้น ความยาวคลื่นครอบคลุม 350-3000 นาโนเมตร ความถี่ครอบคลุม 1-4 GHz และความลึกของการมอดูเลตสูงถึง 2 π rad
|
หมายเลขชิ้นส่วน |
ความยาวคลื่น |
รูรับแสงที่ใช้งานอยู่ |
คลื่นความถี่ |
วัสดุออปติคอล |
ความลึกของการมอดูเลตสูงสุด |
คูลลิ่ง |
|
EOPMR0023-L02G-010-532 |
นาโนเมตร 532 |
1 มม |
1.75 GHz |
ล้าน |
2 ปิราด |
ระบายความร้อนด้วยการนำ |
|
EOPMR0024-L02G-010-633 |
นาโนเมตร 633 |
1 มม |
1.75 GHz |
ล้าน |
2 ปิราด |
ระบายความร้อนด้วยการนำ |
|
EOPMR0013-L02M-030-780 |
นาโนเมตร 780 |
3 มม |
เมกะเฮิรตซ์ 25 |
ล้าน |
1.2 ปิราด |
ระบายความร้อนด้วยการนำ |
|
EOPMN0003-L00M-030-461 |
นาโนเมตร 461 |
3 มม |
KHz 132 |
ล้าน |
1 ปิราด |
ระบายความร้อนด้วยการนำ |
|
EOPMR0017-L02M-030-650 |
นาโนเมตร 650 |
2 มม |
เมกะเฮิรตซ์ 20 |
ล้าน |
1.3 ปิราด |
ระบายความร้อนด้วยการนำ |
|
EOPMR0006-D20M-030-355 |
นาโนเมตร 355 |
3 มม |
เมกะเฮิรตซ์ 20 |
ดีเคดีพี |
1 ปิราด |
ระบายความร้อนด้วยการนำ |
|
EOPMR0007-L42M-030-355 |
นาโนเมตร 960 |
3 มม |
เมกะเฮิรตซ์ 42 |
ล้าน |
1 ปิราด |
ระบายความร้อนด้วยการนำ |
|
EOPMR0014-L02M-030-420 |
นาโนเมตร 420 |
2 มม |
เมกะเฮิรตซ์ 25 |
ล้าน |
1.4 ปิราด |
ระบายความร้อนด้วยการนำ |
เซลล์ป็อกเกล
เซลล์ Pockels เป็นตัวปรับแสงโพลาไรซ์ที่ออกแบบตามเอฟเฟกต์ Pockels เป็นส่วนประกอบสำคัญในระบบสวิตช์ Q ของช่องเลเซอร์ การเลือกพัลส์ และระบบขยายสัญญาณแบบสร้างใหม่ และเป็นหนึ่งในตัวเลือกที่ดีที่สุดสำหรับการปรับความเข้ม เฟส และความถี่ในอุปกรณ์การประมวลผลและการตรวจจับด้วยเลเซอร์
|
หมายเลขชิ้นส่วน |
คริสตัล |
ความยาวคลื่น |
รูรับแสงที่ใช้งานอยู่ |
การส่งผ่าน |
อัตราส่วนการสูญพันธุ์แบบไดนามิก@1064 นาโนเมตร |
วีแล\4 |
คูลลิ่ง |
|
EOPCR2005-D002-030- 515 |
ดีเคดีพี |
นาโนเมตร 515 |
3 มม |
> 98 % |
> 300:1 |
V 150 |
ระบายความร้อนด้วยการนำ |
|
EOPCR1003-D035-100-1030 |
ดีเคดีพี |
นาโนเมตร 1030 |
10 มม |
> 98 % |
> 1000:1 |
V 3500 |
ระบายความร้อนด้วยการนำ |
|
EOPCS2001-R035-100-1064 |
RTP |
นาโนเมตร 1064 |
10 มม |
> 98 % |
> 100:1 |
V 3500 |
ระบายความร้อนด้วยการนำ |
|
EOPCR1001-B038-040-1064 |
บีบีโอ |
นาโนเมตร 1064 |
4 มม |
> 99.2 % |
> 1200:1 |
V 3800 |
ระบายความร้อนด้วยการนำ |
|
EOPCR1005-B015-030-532 |
บีบีโอ |
นาโนเมตร 532 |
3 มม |
> 99.2 % |
> 1200:1 |
V 1400 |
ระบายความร้อนด้วยการนำ |
|
EOPCR2001-B020-040-1030 |
บีบีโอ |
นาโนเมตร 1030 |
4 มม |
> 99 % |
> 1000:1 |
V 2000 |
ระบายความร้อนด้วยการนำ |
|
EOPCR2002-B034-060-1030 |
บีบีโอ |
นาโนเมตร 1030 |
6 มม |
> 99 % |
> 1000:1 |
V 3400 |
ระบายความร้อนด้วยน้ำ |
|
EOPCR2004-K007-035-800 |
KTP |
นาโนเมตร 800 |
3.5 มม |
> 98 % |
> 500:1 |
V 700 |
ระบายความร้อนด้วยการนำ |
ศูนย์ความรู้เกี่ยวกับเครื่องปรับเปลี่ยนแสงแบบอิเล็กโทรออปติก
ระบบประมวลผลด้วยเลเซอร์ UV แบบหลายหัวถูกนำมาใช้อย่างแพร่หลายในงานการผลิตที่มีความแม่นยำสูง เช่น การเจาะ PCB การตัด FPC การขีดเขียนกระจก และการทำแพทเทิร์นขนาดเล็ก ระบบเหล่านี้แบ่ง...
อ่านเพิ่มเติม