Software VirtualLab Optics

• Modelagem de Luz

O VirtualLab Fusion oferece suporte à modelagem de luz por superfícies de forma livre, divisores de feixe difrativo e geradores de padrão, difusores e matrizes gerais de componentes micro-ópticos, incluindo, mas não se limitando a, matrizes de micro-lentes.

• • Método de design orientado de fácil utilização de elementos defletores de luz, incluindo coerência parcial e efeitos de dispersão.
  • Rastreamento de raios por meio de elementos difrativos.
  • Análise das tolerâncias de fabricação e otimização do projeto em relação às restrições de fabricação.
  • O VirtualLab Fusion fornece uma plataforma para a construção de um gêmeo digital para o seu sistema óptico, facilitando assim a investigação da influência de diferentes elementos no desempenho do sistema geral (por exemplo, o efeito da aberração da lente na qualidade de um feixe moldado )
  • Exportação de dados de fabricação para vários formatos de superfície, incluindo interfaces quantizadas, como máscaras binárias e lentes difrativas.
  • Flexibilidade insuperável para definir as funções do detector, incluindo grandezas de energia, polarização, coerência, grandezas de pulso de femtossegundo espaço-temporal, amplitude e fase, diagramas de pontos, erro de frente de onda e aberrações.
• Metrologia Óptica

A investigação completa de interferômetros, espectrômetros e da qualidade de imagem e limite de resolução de microscópios com iluminação convencional ou estruturada é possibilitada por ótica física rápida.

• • Alternância fácil entre traçado de raio e simulações óticas físicas rápidas para os mesmos sistemas.
  • Análise de alto desempenho de sistemas complexos.
  • Simulação rápida de efeitos de coerência e padrões de interferência.
  • Consideração automática de efeitos vetoriais.
  • Análise rigorosa de grades convincentemente incluídas no modelo para todo o sistema complexo.
• Sistemas de Imagem

A modelagem de sistemas de lentes por ótica física rápida fornece avaliação confiável de PSF / MTF, incluindo imagens fantasmas e coerência parcial, e a inclusão de grades, HOEs e lentes difrativas.

• • Alternância fácil entre modelagem óptica e de raio físico. 
  • Inclusão de lentes difrativas e grades.
  • Cálculo PSF / MTF para aberturas de formato arbitrário e não totalmente iluminadas.
  • Cálculo rápido de PSF / MTF para sistemas de alto NA.
  • Análise totalmente vetorial.
  • Modelagem não sequencial.
• laser Systems

A ótica física rápida fornece um modelo convincente de fontes de laser, ao mesmo tempo que considera difração, interferência e polarização, além de conceder acesso a qualquer parâmetro de feixe de interesse.

• • Modelos de fonte sofisticados, incluindo lasers, diodos de laser com astigmatismo, VCSELs, fontes parcialmente coerentes, pulso de femtossegundo e raios-x.
  • Seleção automática de modelagem que permite a modelagem óptica física tão fácil quanto a aplicação de traçado de raio.
  • Inclusão de solvers Maxwell para grades, lentes difrativas e HOEs em superfícies planas e curvas.
  • Alternância fácil entre traçado de raio e modelagem óptica física.
• Realidade Virtual e Mista

VirtualLab Fusion fornece modelagem não sequencial de sistemas de imagem de guia de onda multicanal, incluindo erro de frente de onda, fluxo de energia e avaliação PSF / MTF conforme necessário para VR, AR e MR

• • Definição arbitrária de regiões de grade em superfícies de guias de ondas.
  • Alternância fácil entre rastreamento de raio e motores óticos físicos rápidos.
  • Cálculo PSF / MTF avançado para aberturas de formato arbitrário e totalmente ou parcialmente iluminadas, levando em consideração as aberrações da frente de onda.
  • Traçado de raio não sequencial informado por um conceito de energia baseado em ótica física.
  • Rastreamento de campo não sequencial (simulação de óptica física) que inclui efeitos vetoriais, de polarização e coerência.
  • Cálculo rigoroso de eficiências de ordem de difração para regiões de grade.
  • Modelagem e otimização de elementos ópticos difrativos de alto NA (divisores de feixe) para geração de padrões.
  • Simulação e análise de superfícies de forma livre com alto NA.