UV 미러: 광학 시스템의 미래를 반영하다

저자: Bryan Ng – 마케팅 관리자

편집자: Qu Yingli – R&D 이사

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마지막 편집 :

1. UV Mirror의 이해

광학 거울은 빛을 반사할 수 있는 반사면을 가지고 있으며, 일반적으로 광학 시스템을 접거나 소형화하는 데 사용됩니다. 자외선(UV) 거울은 자외선을 반사하도록 특별히 제작된 거울입니다. 이러한 종류의 거울은 의료 영상, 반도체 제조, 형광 현미경, 심지어 천문학 등 다양한 분야에서 널리 사용됩니다.

UV 거울을 사용하려면 특정 재료와 코팅을 선택해야 합니다. 거울의 다양한 UV 반사율 적용은 기판 재료, 코팅의 두께 및 구성, 입사각과 같은 요인의 조합으로 인해 다양한 파장에서 달라집니다. 이러한 요소가 UV 광선의 특성에 어떤 영향을 미치는지 이해하고 평가하는 것은 특정 용도에 맞는 거울을 설계하는 데 중요합니다.

2. UV Mirror의 응용

2.1 의료 산업

UV 거울은 의료 분야에서 광범위한 적용 범위를 가지고 있습니다. 의료 영상에는 형광 현미경과 같이 UV 형광에 의존하는 다양한 영상 기술이 있습니다. 이는 특정 생물학적 지표의 시각화를 향상시키고 질병 진단에 도움을 줍니다. 이러한 거울의 다른 용도로는 의료 장비의 UV 살균과 치과에서 치과 재료의 경화가 있습니다.

2.2 반도체 제조

반도체 산업은 집적 회로 제조의 중요한 단계인 포토리소그래피 공정에 UV 미러를 사용합니다. UV 미러는 포토레지스트가 코팅된 반도체 웨이퍼에 자외선을 집중시키고 집중시켜 실리콘 칩의 정밀한 패터닝에 사용됩니다. 이를 통해 더 작고 효율적인 전자 부품의 생산이 보장됩니다.

2.3 레이저 시스템

다양한 UV 레이저 시스템은 UV 미러를 사용하여 UV 광선을 조종합니다. 이러한 레이저는 LASIK 수술에 사용되는 상대적으로 낮은 출력의 레이저부터 보안에 사용되는 훨씬 더 높은 출력의 레이저까지 다양합니다. 레이저 출력과 주파수에 따라 이러한 용도에는 특수 UV 미러가 필요할 수 있습니다. 예를 들어, 고출력 레이저에는 내열성이 더 높고 열을 빠르게 발산할 수 있는 거울이 필요할 수 있지만, LASIK 눈 수술과 같은 보다 정밀한 응용 분야에 사용되는 거울에는 더 높은 표면 품질이 필요합니다.

3. UV 거울의 종류

다양한 유형의 UV Mirror는 구성 재료와 제조 공정에 따라 차별화될 수 있습니다. 가장 일반적인 UV 거울은 유전체 거울 또는 금속 코팅 거울입니다. UV 거울은 설계된 용도에 따라 차별화될 수도 있습니다. 이는 다양한 기판, 코팅, 두께 및 제조 공정을 갖춘 유전체 거울 및 금속 코팅 거울의 맞춤형 버전인 경우가 많습니다. 일반적으로 사용되는 거울 유형으로는 레이저 라인 거울과 초고속 거울이 있습니다.

3.1 광대역 유전체 거울

광학 미러 광대역 미러
Wavelength Opto-Electronic 광대역 유전체 거울

자료: BK7 또는 용융 실리카
치수 공차 : + 0.0 / -0.2mm
두께 공차 : ± 0.2mm
표면 품질 : 20/10 SD
명확한 조리개 : > 90 %
반사율 : > 99 %
입사각: 45 °
평탄도 : < λ/10 @ 632.8mm 범위당 25nm
모따기 : 보호<0.5mmx45°
코팅: 유전체 HR
손상 임계값: >5J/cm², 20ns, 20Hz, @1064nm

사양 1: Wavelength Opto-Electronic 광대역 유전체 거울

광대역 유전체 거울은 전자기 스펙트럼 내의 넓은 파장 범위에 걸쳐 높은 반사율을 나타내도록 설계되었습니다. 특정 파장 또는 좁은 스펙트럼 대역에서의 반사에 최적화된 기존 거울과는 달리, 광대역 유전체 거울은 자외선(UV), 가시광선 및 적외선(IR) 영역을 포함한 넓은 주파수 범위에서 빛을 효율적으로 반사하도록 설계되었습니다.

부품 번호파장 (nm)치수 (mm)두께 (mm)자재반사율(%)
RFS-1-6.35-B1350 – 40025.46.35융합 실리카> 99
RFS-30-5-B1350 – 40030.05.00융합 실리카> 99
RFS-1.5-6.35-B1350 – 40038.16.35융합 실리카> 99
RFS-1.5-9.5-B1350 – 40038.19.50융합 실리카> 99
RFS-2-9.5-B1350 – 40050.89.50융합 실리카> 99
표 1 : Wavelength Opto-Electronic 표준 광대역 유전체 UV 미러

이러한 거울은 굴절률이 다양한 여러 유전체 재료를 기판에 증착하여 만들어집니다. 이러한 재료의 배열과 두께는 넓은 스펙트럼에 걸쳐 거울의 반사율을 증가시키는 간섭 효과를 생성합니다. 이를 통해 특정 용도와 필요에 따라 미러를 맞춤 설정할 수 있습니다. 금속 코팅 거울보다 환경적 힘에 더 견고하고 탄력적입니다. 그러나 제조 공정이 간단하지 않아 금속 도금 제품에 비해 생산 비용이 더 많이 듭니다.

3.2 금속 코팅 거울

광학 거울 광대역 금속 거울
Wavelength Opto-Electronic 광대역 금속 거울

자료: BK7 또는 용융 실리카
치수 공차 : + 0.0 / -0.2mm
두께 공차 : ± 0.2mm
표면 품질 : 20/10 SD
명확한 조리개 : > 90 %
입사각: 45 °
평탄도 :  < λ/10 @ 632.8nm
보호된 알루미늄: Ravg>90% @ 400nm-2µm
보호된 실버: R평균>97% @ 400nm-2µm
손상 임계값: >1 J/cm², 20ns, 20Hz, @1064nm

사양 2: Wavelength Opto-Electronic 광대역 금속 거울

금속 코팅 UV 거울은 물리적 증착(PVD) 또는 화학적 증착(CVD)과 같은 다양한 기술을 사용하여 적절한 기판에 알루미늄 또는 은의 얇은 금속막을 코팅하여 제작됩니다. 알루미늄과 은은 이러한 거울의 코팅에 사용되는 대표적인 금속입니다. 알루미늄 코팅 거울은 비용 효율적이며 우수한 반사율을 나타내어 UV 응용 분야에 널리 사용됩니다. 그러나 알루미늄 코팅은 시간이 지남에 따라 산화되기 쉬우며, 이는 반사 성능에 영향을 미칠 수 있습니다. 따라서 이러한 거울은 반사 특성을 유지하기 위해 빈번한 유지 보수와 예방 조치가 필요합니다.

부품 번호파장치수 (mm)두께 (mm)자재반사율(%)
RFS-1-6.35-A450nm – 20μm25.46.35융합 실리카> 90% @ 450nm – 2µm
RFS-30-5-A450nm – 20μm30.05.00융합 실리카> 90% @ 450nm – 2µm
RFS-1.5-6.35-A450nm – 20μm38.16.35융합 실리카> 90% @ 450nm – 2µm
RFS-1.5-9.5-A450nm – 20μm38.19.50융합 실리카> 90% @ 450nm – 2µm
RFS-2-9.5-A450nm – 20μm50.89.50융합 실리카> 90% @ 450nm – 2µm
RFS-1-6.35-S450nm – 20μm25.46.35융합 실리카> 97% @ 450nm – 2µm
RFS-30-5-S450nm – 20μm30.05.00융합 실리카> 97% @ 450nm – 2µm
RFS-1.5-6.35-S450nm – 20μm38.16.35융합 실리카> 97% @ 450nm – 2µm
RFS-1.5-9.5-S450nm – 20μm38.19.50융합 실리카> 97% @ 450nm – 2µm
RFS-2-9.5-S450nm – 20μm50.89.50융합 실리카> 97% @ 450nm – 2µm
표 2 : Wavelength Opto-Electronic 표준 광대역 금속 거울

UV 거울은 설계된 용도에 따라 차별화될 수도 있습니다. 이는 다양한 기판, 코팅, 두께 및 제조 공정을 갖춘 유전체 거울 및 금속 코팅 거울의 맞춤형 버전인 경우가 많습니다. 일반적으로 사용되는 거울 유형으로는 레이저 라인 거울과 초고속 거울이 있습니다.

3.3 레이저 라인 미러

레이저 광학 - 광학 미러 - 레이저 라인 미러
Wavelength Opto-Electronic 레이저 라인 미러

기질 재료: N-BK7 및 용융 실리카
치수 공차 : + 0.0 / -0.25mm
두께 공차 : ± 0.25mm
표면 품질 : 10/5 SD
명확한 조리개 : > 90 %
반사율 : 99°에서 >45%
입사각: 0-45 °
평탄도 : < λ/10 @ 632.8nm
그룹 지연 분산: < 30fs²(s 및 p 편광용)
코팅: HR @ 350-400nm / 510-580nm / 950-1150nm
손상 임계값 @ 20ns, 20Hz: 20J/cm2 1064nm/15J/cm의 경우2 532nm/10J/cm의 경우2 355nm 용

사양 3: Wavelength Opto-Electronic 레이저 라인 미러

레이저 라인 미러는 레이저 빔의 반사 또는 방향 전환이 필요한 응용 분야, 특히 빔 조향이나 빔 접기와 같은 작업에 이상적입니다. 이러한 미러는 고출력 레이저에 적합하도록 높은 손상 임계값을 갖도록 설계되었습니다. 일반적으로 네오디뮴 YAG 레이저에 사용되지만 자외선(UV) 영역의 레이저에 맞게 맞춤 제작할 수도 있습니다.

부품 번호파장 (nm)직경 (mm)동부 표준시(mm)자재반사율(%)
RFS-0.75-3.2U35519.13.2융합 실리카99.5
RFS-0.75-9.5U35519.19.5융합 실리카99.5
RFS-20-2U355202융합 실리카99.5
RFS-1-3U35525.43융합 실리카99.5
RFS-1-6U35525.46융합 실리카99.5
RFS-1-6.3U35525.46.3융합 실리카99.5
RFS-1-9.5U35525.49.5융합 실리카99.5
RFS-30-5U35530.15융합 실리카99.5
RFS-1.5-3U35538.13융합 실리카99.5
RFS-1.5-9.5U35538.19.5융합 실리카99.5
RFS-38.5-3U35538.53융합 실리카99.5
RFS-50-5U355505융합 실리카99.5
RFS-2-6.3U35550.86.3융합 실리카99.5
RFS-2-9.5U35550.89.5융합 실리카99.5
RFS-1-9.5V26625.49.5융합 실리카99.5
RFS-30-5V266305융합 실리카99.5
RFS-1.5-9.5V26638.19.5융합 실리카99.5
RFS-2-9.5V26650.89.5융합 실리카99.5
표 3 : Wavelength Opto-Electronic 표준 레이저 라인 미러

3.4 초고속 미러

광학 미러 - 초고속 미러 - 포커싱 렌즈 - 의료용 레이저 렌즈
Wavelength Opto-Electronic 초고속 거울

자료: 융합 실리카
치수 공차 : + 0.0 / -0.2mm
두께 공차 : ± 0.2mm
표면 품질 : 20/10 SD
명확한 조리개 : > 80 %
반사율 : > 99 %
입사각: 45 °
평탄도 : < λ/10 @ 632.8nm
그룹 지연 분산: < 30fs²(s 및 p 편광용)
코팅: HR
손상 임계값: >100mJ/cm² @ 800nm, 50fs, 50Hz

사양 4: Wavelength Opto-Electronic 초고속 거울

초고속 거울은 초고속 레이저를 수용하도록 설계되었습니다. 초고속 레이저는 펨토초 또는 피코초 단위의 매우 짧은 펄스를 방출합니다. 이러한 거울은 높은 손상 임계값과 낮은 군분산지연(GDD)을 특징으로 합니다. GDD는 펄스 내에서 서로 다른 주파수 간의 상대적인 지연을 나타내는 척도입니다. 초단 레이저 펄스의 시간적 특성을 정밀하게 제어해야 할 경우 낮은 GDD를 가진 거울이 필수적입니다.

초고속 미러 다이어그램 2
그림 3: Ultrafast Mirror GDD @ 355-455nm

위에 표시된 그래프는 용융 실리카 초고속 거울에 대한 것입니다. 표시된 대로 미러의 GDD는 30nm~370nm 사이에서 420fs² 미만(s 및 p 편광의 경우)입니다. 이러한 특성으로 인해 이러한 거울은 분광학, 재료 가공 및 의료 산업과 같은 분야에서 매우 유용합니다.

부품 번호파장 (nm)치수 (mm)두께 (mm)자재그룹 지연 분산
RFS-1-6.35-UM1355 – 45525.46.35융합 실리카< 30fs²
RFS-30-5-UM1355 – 45530.05.00융합 실리카< 30fs²
RFS-1.5-6.35-UM1355 – 45538.16.35융합 실리카< 30fs²
RFS-1.5-9.5-UM1355 – 45538.19.50융합 실리카< 30fs²
RFS-2-9.5-UM1355 – 45550.89.50융합 실리카< 30fs²
표 4 : Wavelength Opto-Electronic 표준 초고속 미러

4. 신뢰할 수 있는 UV 미러 공급업체를 찾고 계십니까?

최첨단 시설과 풍부한 경험을 바탕으로 Wavelength Opto-Electronic 품질을 디자인하고 제조합니다. 광학 거울 다양한 형상과 코팅 옵션으로 제공되는 UV 미러를 포함합니다. 위의 제품 표에 표시된 것처럼 기성 솔루션을 쉽게 사용할 수 있지만 다음과 같은 작업도 가능합니다. 사용자 정의 UV 미러는 표준 사양부터 고정밀 사양까지, 유리, 크리스탈, 금속 등 다양한 광학 소재를 활용합니다.

관용Standard정밀성높은 정밀도
기질유리: N-BK7, 용융 실리카
결정: ZnSe, Si
금속: Cu, Al, Mo
크기최소: 4mm, 최대: 200mm
모양/기하학타원형, 평면, 구형, 포물선형
외형 치수± 0.25mm± 0.1mm± 0.05mm
두께± 0.1mm± 0.05mm± 0.01mm
파장 범위350nm-20μm350nm-20μm350nm-20μm
평탄2분λ / 4λ / 10
반사율85%90%99.9%
코팅 옵션금속, 광대역 유전체, 협대역 유전체,
표면 품질80-5040-2010-5
표 5 : Wavelength Opto-Electronic 광학 거울 제조 역량
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